이번 세미나에서는 초평탄표면물리(flat-surface physics), 기판공학 (substrate engineering)과 산화 물리 및 공학(oxidation physics and engineering)에 대해 소개한다. 전세계적으로 아직 발달되지 않은 개념 및 영역들이지만 금속 박막의 표면을 원자층 수준으로 조절하였을 때 나타나는 다양한 새로운 물성, 물질의 기판을 조절하여 목표하는 물질을 완벽한 단결정으로 성장하는 기판공학, 그리고 산화성 금속의 산화가 왜 일어나는 지에서부터 산화를 원천 차단하는 방법과 강제로 산화를 벡터량처럼 제어하는 방법 까지를 소개할 것이다. 산화가 잘 제어된 단결정구리 박막에서 구현되는 빨주노초파남보의 색을 포함하여 회색에서 검정색까지의 무채색 표면에 대한 흥미로운 광학적, 구조적 특성도 소개한다. 뿐 만 아니라 이중의 heteroepitaxial process 임에도 단원자층의 평탄면(mono-atom stepped flat surface)를 보장하는 메타모르픽성장(meta morphic growth)의 막강한 장점을 소개한다. 

그림. 원자 스퍼터링 에피택시(ASE)에 의해 성장된 단결정 구리 박막(SCCF)의 표면. a, 원자 한층 거칠기로 구현된 구리 박막 표면의 단면 HRTEM 이미지.

 b-c, 기하학적 위상 분석(GPA)으로 얻은 평면 내 및 평면 외 스트래인 필드 맵. d, (111) 층 간격(d(111) = 0.21 nm)에 대한 면외 방향을 따라 얻은 실험 및 시뮬레이션된 강도 프로파일의 비교. 

e, 구리 박막의 표면 부분에 대해 동시에 획득한 ADF- 및 ABF-STEM 이미지. 스케일 바: 2nm 

참고문헌

1. Layer-controlled single-crystal graphene film with stacking order via Cu-Si alloy formation, VL Nguyen, et al., Se-Young Jeong* and Young Hee Lee*, Nature Nanotech. s41565-020-0743-0 (2020)

2. Color of Copper/Copper oxide, S.J. Kim, et al., and, W.S. Choi*, Se-Young Jeong* and Y. H. Lee*, Adv. Mat. 202007345 (2021)

3. Flat-surface-assisted and self-regulated oxidation resistance of Cu(111) , S.J. Kim, et al., and S. G. Kim*, Y. M. Kim* and Se-Young Jeong*, Nature (2021) in press.

4. Wafer-scale high-quality Ag thin film using a ZnO buffer layer for plasmonic applications, B.-G. Jung , et al., Young Hee Lee*, Seung chul Kim*, Se-Young Jeong*, Applied Surface Science 512 (2020) 145705

5. Wafer-scale single-crystalline AB-stacked bilayer graphene, VL Nguyen, et al., and Se-Young Jeong* and Young Hee Lee*, Advanced Materials, 201601760 (2016)